Китайская компания Prinano, известная также под брендом PuLin Technology, сделала значительный шаг в области микро- и нанотехнологий, поставив свой первый полностью разработанный в стране наноимпринтный литограф модели PL-SR для нужд реального производства чипов. Этот прорыв получил широкое освещение как в отраслевых изданиях, так и на международных технологических выставках, поскольку ранее такие системы производства электроники были доступны преимущественно западным компаниям, особенно крупным мировым гигантам, вроде Canon. Размещая этот литограф у клиента, Prinano стала второй в мире компанией, после Canon, способной предложить подобное оборудование для массового изготовления полупроводниковых устройств, что является важным шагом в стратегическом развитии технологической независимости Китая.
Основная особенность системы PL-SR заключается в поддержке ширины линий менее десяти нанометров, что соответствует современными стандартам микроэлектроники. Для сравнения, лазерные системы Canon FPA-1200NZ2C способны создавать схемы с минимальной шириной линий около 14 нанометров. Таким образом, Prinano смогла добиться следующего шага – освоить технологический процесс, позволяющий производить чипы класса 5 нанометров, хотя в официальных документах подчеркивается, что данная система не предназначена для массового производства продвинутой логики по технологиям 5 нм и ниже, а скорее служит для определенных типов устройств и решений.
Нанопечать в микро- и наноразмерах обладает рядом значительных преимуществ по сравнению с традиционными литографическими методами. Во-первых, в ней не используется источник экстремального ультрафиолета (EUV), который является основной технологической составляющей большинства современных передовых литографических систем. Это означает, что оборудование более энергоэффективно и значительно дешевле в эксплуатации и обслуживании. Кроме того, отказ от EUV снижает сложности с обеспечением чистоты и стабильности процесса. Однако, у нанопечати существуют и свои ограничения – она работает медленнее и менее гибка по сравнению с оптическими технологиями, особенно в создании сложных и многоуровневых логических схем, таких как CPU или GPU с их многочисленными компонентами и высокими требованиями к точности и плотности размещения элементов.
Принано разработала уникальную технологию формирования изображений на пластинах. Процесс включает в себя использование жесткой кварцевой формы с нанометровыми схемами, которую прижимают к тонкому слою резиста, нанесенному струйной печатью. В отличие от классических методов, здесь осуществляется динамическое измерение объема капель, что позволяет точно регулировать их размер и сохранить минимальную толщину слоя резиста — менее десяти нанометров, с погрешностью менее двух нанометров. Такой уровень точности обеспечивает высокое качество воспроизведения мельчайших деталей и минимизацию ошибок в процессе литографии.
Модель PL-SR рассчитана на работу с полистирольными пластинами диаметром 300 миллиметров, что соответствует стандартным используемым в промышленности размерам для массового производства полу Conductors. Это говорит о том, что система не предназначена только для научных исследований или прототипирования, а ориентирована на реальное производство, что в свою очередь подчеркивает растущее технологическое развитие Китая в сфере микроэлектроники.
Несмотря на то, что система Prinano пока скорее соответствует задачам производства определенных типов устройств, таких как флэш-память и другие компоненты низкой и средней степени сложности, ее появление открывает новые возможности для внутреннего рынка страны и уменьшает зависимость от западных поставщиков. В перспективе это может стать фундаментом для развития собственных передовых линий по производству более сложных полупроводниковых устройств, а также стимулировать развитие инновационных технологий в области наноразмерного производства микроэлементов. В целом, запуск системы PL-SR знаменует собой важный этап на пути к созданию полупроводниковой промышленности полного цикла в Китае и укреплению его позиций как одного из ведущих центров высоких технологий в мире.